強誘電体におけるドメイン反転は,

(a)核生成
電圧を印加すると,まず初めに電界が集中している場所(探針先端の近傍)で分極反転ドメインの核が生成
(b)forward growth
核が電界印加方向(試料裏面)に成長
(c)sidewise growth
ドメイン壁が電界印加方向に対し垂直な方向(試料の面内方向)へ移動

の3つの過程に大別されます.

 ドメイン(ドット)の径の大きさは,印加電圧パルスの心腹や時間幅に依存することがわかっており,最適な電圧を印加することで微小なドメインを生成できます.

 図は厚さ30 nm[注: 1nmは10-9nm]の一致溶融組成LiTaO3(CLT)記録媒体にドットを書き込んだものです。短い電圧印加時間で微小なドメインが生成することが分かります.

高密度記録

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